・設立 　　平成１０年４月１日 ・営業開始 　　平成１０年８月２７日 ・資本金 　　２千万円 ・株主 　東京ガスケミカル株式会社 ８０％ 　東京高圧株式会社　　　　　２０％ ・事業内容 　ネオン・クリプトン・キセノンおよび混合ガスの製造 ・本社 　東京都港区芝公園2-4-1秀和芝パークビルＢ−６Ｆ　東京ガスケミカル（株）内 ・工場所在地 　千葉県袖ヶ浦市長浦拓２号

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